三星再陷两起专利侵权案

首页- 百科- 发明专利 | 2016年12月06日 | 阅读次数:506

摘要 :


    在与苹果的专利侵权案中败诉后,最近三星又陷入两起专利诉讼。

    据了解,三星画图解锁专利侵权近日被福州市中级人民法院判决败诉,相关手机停止销售并给以专利方给以1000万赔偿。

    除了这一桩,有消息称,三星被指侵犯了与鳍式场效应晶体管(FinFET)制程工艺相关的专利,面临 专利诉讼 。韩国科学技术院(KAIST)计划对三星提起诉讼,指控后者侵犯其FinFET专利。KAIST称,他们开发了10纳米FinFET工艺,但是三星窃取了这项技术,并将其用于生产高通骁龙835芯片。

    KAIST表示,三星是在邀请FinFET技术开发者、首尔大学教授李钟浩(Lee Jong-ho)向公司工程师展示FinFET技术原理时盗取了这项技术。李钟浩是KAIST合伙人之一。

    “三星在分文未花的情况下盗取了李钟浩的发明,从而削减了开发时间和成本。随后,三星在没有取得授权或支付适当赔偿金的情况下继续使用李钟浩的发明,”KAIST称。

    KAIST表示,英特尔已意识到他们才是FinFET技术的真正开发者,并取得了授权使用这项技术,但是三星并未这么做。KAIST还认为高通、台积电也侵犯了FinFET技术专利。

来源:北京商报




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